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得益于东洋强大的电子配套产业实力，围绕着157nm光源，东洋系电子产业链参与进去了无数的大小公司，结果都被一起打折了脊梁，在梁远偷渡之前，东洋广场协议之后，东洋经济之所以失落长达二十年之久，林本坚博士绝对功不可没。
除了憋屈死掉的157光源之外，13。5nm euv llc也是梁远偷渡之前人类技术上限中最有可能投入到大规模商业应用中的光源，这个阵营包括英特尔、amd、摩托罗拉、美国能源部、asml、英飞凌、micron等。
1nm接近式 x 光：这个阵营包括aset、mitsubishi，、nec、toshiba，、ntt、ibm、摩托罗拉，这也是一个被林本坚博士击沉的阵营，由于实验室向来比产业界前沿的缘故，这个阵营起始于八十年末期，采用接近式曝光方式生产，原计划可以作为157光源之后的后补技术登场，到了新世纪虽然没有尼康那般倒霉刚好产品成熟，不过美日两国也各自在这个方向上投入了数十亿美元的巨资，还未问世就已经凉凉也不知道是幸还是不幸。
0。004nm ebdw 或 epl：朗讯～贝尔实验室、ibm、佳能、尼康，asml被邀请加入后又率先退出，这个阵营的学名叫做电子束直写技术，是所有光刻技术阵营中看起来最吊也最浪漫的那个，同样也是光刻技术的物理极限，更是方伟林的主要来意。
尼康在被asml击败之后，曾押宝电子束直写技术拼死一搏，可惜这玩意的研发难度堪称电子行业的可控核聚变，直到梁远偷渡那一刻也没听到入坑十年的尼康搞出什么大新闻。
一般来说，科技的前沿以大学为主多从事基础科技研发，基础科技往往领先产业应用十几年甚至上百年的时间，比如爱因斯坦的质能方程和相对论，产业的前沿则是以大学定向实验室和各类企业研究所为主，实验室技术基本就是未来的工业界主流技术，往往领先工业界现有技术五至十年，比如诺基亚实验室在2000年曾经在实验室中搞出了和苹果手机类似的个人电子终端，可惜被诺基亚高管枪毙掉了。
同样，在九十年代初，从事电子产业研发的各大公司前沿实验室，已经发觉193nm波长之后，光源的发展忽然陷入了极大的困境，现有的材料完全不支持更短波长的光源有大批量应用的可能，继续缩短波长只能寄托于新材料的发现或者死磕收益率不高的153nm波长的光源，更新现有电子产业的大部分设备。
由于芯片产业属于高技术行业的缘故，前沿和生产一线的联系十分紧密，实验室的研发困境很快就传导到了产业界，结果虽然193nm的光源还未普及，但未来的阵营已经隐隐有了迹象。
港基集电作为共和国唯一一家能摸到产业前沿尾巴的微电子集团，内部对未来的技术路线自然也是争执不断，有站队193nm决定只看眼前的，有站队153nm的，相比193nm提升25％也是提升对不对，相比极紫外光反射式euv光刻，153nm设备的研发难度真是缩小了一个数量级，看起来是个弯道超车的好方案。
还有一部分胆子不小性情激进的研发人员直接站队euv，而最激进的就是看好电子束直写技术是未来突破193nm光源的最佳选择。
未来的互联网时代有句流传很广的大实话，只有吊丝才做选择题，土豪从来都是全要，港基集电就是全球电子产业中的吊丝，哪有精力在四个阵营全部投入研发经费，能坚守住一个阵营不被落下太远就已经谢天谢地了。
经费有限，个人又都认为面对若隐若现的193nm门槛，自己的方向才是正确的，在梁远不干预的情况下港基集电内部已经吵成了一团，而电子束直写方案是第一个被港基集电高层枪毙掉的方案。
电子束直写技术由于电子束的特性缘故，在精度上可以领先曝光技术四、五个世代，也就是说在晶圆生产线主流技术为1。0微米的时代，电子束直写技术可以把制程线宽直接推进到0。13微米。
看起来这么牛x的技术为啥被港基集电高管第一时间毙掉了？
一般来说，九十年代初期，主流技术的光刻机每小时加工的晶圆数量大约150至200片之间，而电子束直写技术加工晶圆的数量大约为每小时三至五片，最坑爹的是随着未来芯片的复杂程度快速提高，港基集电预估电子束直写技术的加工能力还会恐怖从每小时三至五片晶圆下降为每小时加工三至五枚芯片的程度。
第267 制程线路之争 （下）（）
新世纪之后，电子束直写技术在芯片领域的应用大部分局限于科研和掩膜领域。
在电子芯片日益复杂的未来，加工一枚芯片的平均时间已经增长到了七个小时，如果芯片构造特别复杂加工一枚芯片的时间甚至高达六、七十个小时。
不过在九十年代，还有企业或研发机构试图用多光速同时加工的方式来突破电子束生产效率低下的桎梏。
比如通过多光源和多透镜使得同时工作的电子束高达上千束。
就算上千束电子束同时工作，在九十年代芯片结构比较简单的时代也只是堪堪追上曝光式光刻机的生产效率而已，不过多光束电子束光刻机三倍于曝光式光刻机的昂贵成本依旧打不开光刻机的主流市场。
当然，由于可以直接加工晶圆的缘故，电子束直写技术是加工曝光式光刻机掩膜模板的最佳技术。
王欣、刘飞扬、聂晓天三人一人数句的把光刻机市场的技术前景和大致的阵营和梁远一一的介绍了一遍。
最后，王欣总结着说道：“大少也知道，真论起研发力量我们和主流大厂肯定没法比，港基集电顺利发展到现在，有大半发展机遇是大少抓住国内特殊国情，利用时间差成品差的战略在撑着，光刻机是产线最核心的设备，多路研发就算我们有钱，人也是不够的。”
王欣停顿了一下，继续说道：“我们内部已经快要达成共识，大部分人都赞同走193nm光源的技术路线，一个原因是193nm光源应用很广，在医疗、工业、科教等领域都有着很广泛的应用，可以大幅度的降低研发成本，还一个原因就是从产业前沿传来的消息，193nm之后的光源研发很不顺利，有大概率会卡住几年，对于我们这种落后一方来说，这个机会十分的难得，有追上国际一线水准的可能。”
“大少，电子束直写技术由于在线宽上的巨大优势，几乎比主流曝光技术先进四到五代，这就直接导致了在生产掩膜模板这个电子束直写技术最大的应用领域中，完全不必要使用最先进的技术，线宽不用说落后五代，哪怕是四代在国际上也是烂大街的东西，只要有钱随便买～～”
刘飞扬十分了解梁远的心思，直接说明了这玩意压根就没人卡脖子。
“大少拉出来的战线太长，我们又没大少的天赋只能尽力收束力量，把研发力量集中到一个领域～。”
聂晓天和梁远混在一起的时间最长，在梁远的影响下说话时没什么顾虑，把理由说得十分直白。
电子产业，若是说终端消费品梁远还能底气十足的说到说到，若是说工业化大生产，除了未来流传很广的一些名词，其他的梁远是一窍不通。
光刻机这玩意就属于梁远一窍不通的那种。
被互联网时代洗礼过的网民群体两极分化的厉害，一部分人在知识面广博之后认为自己天上地下我最牛逼，不管啥话题都敢装专家，还有一部分却被知识的深度所征服，清醒的认识到知道得越多自己越无知。
梁远就是属于后者，因此除了决定方向性的大战略，梁远早就彻底放手港基集电的日常管理，自然对港基集电内部这些关于技术方向的站队问题不算了解。
梁远听三个技术大佬说完，才算对光刻机领域有了较为详细的了解。
“那，外边那位该怎么应付？”梁远问道。
梁远觉得，这年头能在国内搞电子产业的都是人才，就这么放弃了心里总有点不得劲。
“改行呗～”
“我们和ge交换来电子束物理气相沉积技术的前前后后，包括我在内很多人可是站队电子束直写技术的，后来还不是都改行了。”
王欣笑着说道。
国内叫领导或长官意志，海外叫权威意志或资本意志，科研哪可能一点外界影响都不受，梁远喜欢逮到一个有前景的技术往死里深挖，早就在远嘉高管中人所共知。
受梁远这种思维影响，和ge交换技术前后电子束直写技术在港基集电内部一度成了研发光刻机的网红技术。
不过梁远知道收束自己的权利，不懂的东西不乱发表意见，下边虽然有拍马屁的心思，但终究还没演变到学术站队那种程度，港基集电投入技术力量深入了解一番之后，电子束直写技术暴露出工业化应用效率过低这个大缺点，终于被彻底放弃。
“大少，电子束直写我也站队过，现在不也一样改了，可以让外边留着个小团队慢慢研究，没经费可以合并到简总那边，国内的电子束直写技术虽然落后，不过刚好和我们同样落后的产线制程相符合，掩膜制造这块业务外包出去，足够外边的团队生存，简总那边还能把人手抽调出来放在更重要的方向上。”
刘飞扬也笑着自曝其短。
“聂晓天，你当初站队过电子束直写没有？”
梁远扭头好奇的问聂晓天。
聂晓天摇了摇头，说道：“我一直站队193nm光源来着，我觉得以大少的运气，我们啥时候追上来啥时候193nm才能突破。”
在外人看来也是邪性，自打梁远决定进入光刻机行业，193nm的光源技术壁垒就越发清晰，港基集电的其他人可不知道这事儿和梁远的决策无关，不管梁远进入还是不进入光刻机行业，193nm光源都会卡住小二十年。
梁远还不知道自己的吉祥物属性已经被远嘉高管们给实锤了，这会听三人提起193nm光源技术壁垒多了，脑海里总觉得这个数字有点熟悉，自己好像在什么段子里听过相关的东西。
“你们三，选个人出去和那个方主任说下，我好像有点事情想不起来了。”
梁远越回忆越觉得自己隐约听过的这个段子重要，王欣三人给出的专业判断梁远还是相信的，193nm的光源壁垒梁远好像也有点印象，问题在于梁远可知道自己穿过来的时候，制程线宽都要推进到10纳米之下了，新世纪之后好像也没听说制程线宽卡在哪里停滞不前。
如果制程线宽真被卡住了，以网络媒体的德行早就大炒特炒什么技术停滞了，梁远绝对可以确定，自己记忆中的制程线宽的缩小，新世纪之后几乎没被耽搁。
王欣自告奋勇出去搞定方伟林，梁远用手指轻轻敲着桌面一副神游天外的模样。
这也没有个段友吧啥的，否则万能的段友可是真能拯救世界的，想得有点脑仁痛的梁土豪思维开始不着调了。
自己拼命想回忆起来的那个段子，好像就是在段友吧看到的，梁远皱着眉头目光在会议室里游移不定。
两个丫头对梁远的了解，看神色就猜到梁远应该是遇到什么难题了，瞅着梁远眉头越来越紧不像是一时半会能搞定问题样子，双胞胎决定让梁远从长计议。
“小远～”